氧化铝分散机，氧化铝催化剂研磨分散机

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产品型号：

CMSD2000

品牌：

IKN

≧1 台
￥11189000.00

所在地：

上海松江区

更新日期：

2025-06-16

详细信息

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品牌：IKN	类型：剪切分散机	物料类型：固-液
适用物料：化学品	应用领域：化工	型号：CMSD2000
速度类别：有级变速	调速范围：15000 r/min	分散轮直径：115 mm
升降行程：1000 mm	电机功率：22 Kw	变速方式：变速带变速
罐容量：100 L	外形尺寸：1-1-1 mm	整机重量：200 kg

氧化铝分散机，氧化铝催化剂研磨分散机,氧化铝催化剂，有机反应催化剂研磨分散，氧化炉载体胶体磨是为了实现互不相溶相的分散，必须强力粉碎并混合其粒子。粉碎意味着必须克服表面张力的阻力来形成新表面。分散过程传递所需的能量，并保证两相均质混合。分散的长期稳定性会受到确切粒度分布及乳化剂和稳定剂使用的影响。

氧化铝载体催化剂是指白色粉末状或已成型的氧化铝固体，是一类使用*为广泛的催化剂载体，约占工业上负载型催化剂的70%。氧化铝有多种形态，不仅不同形态有不同性质，即使同一形态也因其来源不同，而有不同的性质，如密度、孔隙结构、比表面积等。
这些性质对于用做催化剂载体的氧化铝有重要的意义。氧化铝大多是从其氢氧化物（又称水合氧化铝或氧化铝水合物）制备的。
成型的商品氧化铝载体多属多孔物质,孔径大小及其分布,对催化过程中反应物在催化剂颗粒内部的扩散性质有重要影响。细微孔隙的孔径可小于20┱,粗孔孔径则可达微米级，孔隙构造随品种而异。所有的过渡态氧化铝都或多或少地含有水，在表面上存在一些羟基和暴露的铝原子，从而表现出B酸和L酸的特征（见酸碱催化剂），它对氧化铝载体的性质有重要影响。表面酸性与制备条件有关，特别是与杂质离子及热处理温度有关。如卤素等负离子会增强氧化铝的表面酸性，酸性增强将促进氧化铝本身对烃类裂解、异构化反应的催化功能。

作用 ①负载催化活性组分。比表面积小的氧化铝（或只有少量的粗孔的材料），通常用于负载比活性很高的催化剂活性组分。用这类载体可以消除孔隙内的扩散效应，在以选择性氧化为目的的工艺中，可以减少深度氧化副反应。如乙烯氧化制环氧乙烷用的银催化剂即以 α－氧化铝为载体。比表面积大的氧化铝具有发达的孔隙构造，能使所负载的催化剂活性组分高度分散成微粒，并借助载体的阻隔作用，防止活性组分微粒在使用过程中烧结长大，是一类广泛使用的氧化铝载体。例如将贵金属钯、铂、铑等分散于氧化铝载体上制成加氢催化剂，可提高贵金属的利用率。

②氧化铝表面酸性与所负载的活性组分构成双功能催化剂。如铂重整中用的铂－氧化铝催化剂，其中氧化铝既作为载体，也是催化剂活性组分之一。在某些情况下氧化铝载体与高分散度金属（如铂）间有强相互作用，可以影响金属的催化性质。

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成型的商品氧化铝载体多属多孔物质,孔径大小及其分布,对催化过程中反应物在催化剂颗粒内部的扩散性质有重要影响。细微孔隙的孔径可小于20┱,粗孔孔径则可达微米级

作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

研磨分散机应用领域：

化学工业：油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛白粉,炭黑,纤维素，石墨烯，碳纳米管，富勒烯，电池浆,压裂液料,纤维,芳纶,氯纶,晴纶等。

食品工业：芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麦乳精、香精、各种饮料花生酱、豆瓣酱、香菇酱、辣酱、酱虾酱，食用菌丝，蛋白粉，豆粕酶解等
日用化工：牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底等。
医药工业：各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮，口服混悬液，注射混悬液，胶囊，微球动物组织破壁盐酸头孢噻呋，硫酸头孢喹肟等。
建筑工业：各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
新能源材料：石墨烯、碳纳米管、碳纤维、锂电池浆料、电池隔膜润滑油等等

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。