中试型胶体磨,实验室中试型胶体磨,中试型实验室胶体磨,德国中试型胶体磨,高速中试型胶体磨是比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上，研磨效果非常好，***高转速可以达到14000RPM。

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实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

     实验室中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

      CM2000/4实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

     公司另外一项独特的创新，就是锥体磨CMO2000系列，它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。 
    研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和***后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理但它的分散效果和***后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。
 

 

它们的主要区别

  CM2000/4（LP系列）为实验室胶体磨的技术参数：功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时（水），重量35KG,尺寸 (长宽高）(450X250X350)MM，LP使用轴封（PTFE 环），在正常的情况下，一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用，一般***多可以使用连续半个小时，这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块，可以实现多功能多用途。是中试生产的***佳选择。

   CM2000/4（LP系列）为220v实验室胶体磨的技术参数：功率1.5 KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压220V,机器产量为 0– 300 升/小时（水），重量35KG,尺寸 (长宽高）(450X250X350)MM，LP使用轴封（PTFE 环），在正常的情况下，一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用，一般***多可以使用连续半个小时，这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块，可以实现多功能多用途。不需要冷却水 (此款设备为特制型产品,适合一些只有220V明用电的环境使用)  因为工业型批次的胶体磨他们的速度和设计结构决定没有那么高的剪切力。而相对而言，管线式就没有那么多的问题，他们可以保持相同的线速度和剪切力。此款设备是科研机构、大专院校、卫生*和产品制造等进行科学研究、产品开发、品质控制及生产过程应用的理想乳化机实验设备。

   CM2000/4（PP系列）为中试型胶体磨的技术参数：功率2.2-4 KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s，电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时（水），重量45KG, 尺寸 (长宽高）((450X250X350)MM，PP使用双机械密封，可24小时不停机连续生产，并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块，可以实现多功能多用途。机械密封和机械设计符合3A健康标准，是中试和小批量生产的***佳选择。

IKN纳米胶体磨与国内胶体磨的性能比较：

• 转速和剪切速率：IKN纳米胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

 

• 胶体磨头和间距：IKN纳米胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
• 机械密封：IKN纳米胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至***低，可24小时不停运转国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

 
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定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
IKN管线式高剪切胶体磨与卧式胶体磨比较：
转速和剪切力：
国内胶体磨，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切胶体磨，9000/14000RPM通过皮带加速
线速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素，相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造：
国内胶体磨，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要*的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN高剪切胶体磨，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。
密封：
国内胶体磨，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至***低，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以***大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口***大压力可以达到12-13 bar .
产品效果：
国内胶体磨，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀
IKN高剪切胶体磨，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米级分散乳化粉碎
 
 

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