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头孢噻呋钠胶体磨，头孢噻呋钠，头孢噻呋钠高速胶体磨
| 产品型号： |
CM2000 |
| 品 牌： |
IKN |
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| 所 在 地： |
上海松江区 |
| 更新日期： |
2025-04-29 |
| | 品牌：IKN | | 型号：CM2000 | | 工作方式：颗粒研磨机 | |
| | 类型：转轴式研磨机 | | 适用物料：乳化液，悬浮液 | | 应用领域：医药 | |
| | 加工批量：100 | | 驱动功率：2.2 kw | | 研磨篮容量：2 L | |
| | 介质尺寸：0.2 mm | | 行程：2000 mm | | 外形尺寸：500*230 m | |
| | 重量：230 | | 行程：2000 mm | | 外形尺寸：500*230 m | |
头孢噻呋钠胶体磨，头孢噻呋钠，头孢噻呋钠高速胶体磨是有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎效果上海依肯机械设备
头孢噻呋钠是头孢菌素类兽医临床专用抗生素，为广谱抗菌药。对革兰氏阳性菌和革兰氏阴性菌均有较强的抗菌作用。头孢噻呋作用于转录肽酶而阻断粘肽的合成，使细菌细胞壁缺失而达到杀菌作用。头孢噻呋具有稳定的β－内酰胺环，不易被耐药菌破坏，可作用于产β－内酰胺酶的革兰氏阳性菌和革兰氏阴性菌。
头孢噻呋钠混悬液是 头孢噻呋钠的混悬液 要求
按Stokes定律要求，混悬剂中微粒浓度应在2%以下。但实际上常用的混悬剂浓度均在2%以上。此外，在沉降过程中微粒电荷的相互排斥作用，阻碍了微粒沉降，故实际沉降速度要比计算得出的速度小得多。由Stokes定律可见，混悬微粒沉降速度与微粒半径平方、微粒与分散介质密度差成正比，与分散介质的粘度成反比。混悬微粒沉降速度愈大，混悬剂的动力学稳定性就愈小。
头孢噻呋钠混悬液胶体磨的粉碎效果
超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用*佳几何机构的研磨定转子，*好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
IKN胶体磨，医药胶体磨，高剪切胶体磨，头孢胶体磨与国内胶体磨的性能比较：
一、转速和剪切速率：
IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1
通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍
二、胶体磨头和间距：
IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。
间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工
国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
三、机械密封：
IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至*低，可24小时不停运转
国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
四、清洗：
IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计无死角，立式结构符合流体原理，清洗更简便
国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，
通常情况，需要拆卸机器进行清洗
头孢噻呋钠胶体磨，头孢噻呋钠，头孢噻呋钠高速胶体磨
