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德国IKN脾氨肽冻干粉打浆匀浆胶体磨机CMSD2000
详细信息| 询价留言品牌:德国IKN 型号:CMSD2000 工作方式:医药胶体磨 类型:圆盘式研磨机 适用物料:混悬液 应用领域:浆料 加工批量:100 驱动功率:11 kw 研磨篮容量:1 L 介质尺寸:12 mm 行程:12 mm 外形尺寸:1-1-1 m 重量:260 行程:12 mm 外形尺寸:1-1-1 m 脾氨肽冻干粉打浆匀浆胶体磨机的主要成份来自新鲜哺乳动物脾脏中提取的多肽及核苷酸类物质,其主要 用于治疗细胞免疫功能低下、免疫缺陷和自身免疫功能紊乱性疾病(反复呼吸道感染、支气 管炎、肺炎、哮喘、重症带状疱瘆及牛皮癣等);用于恶性肿瘤病人放、化疗及术后生活质量, 降低各种原因引起的感冒、发烧或其它感染发生率。
现有的脾氨肽提取方法通常为先将动物脾脏清洗绞碎、匀浆,然后通过透析或超 滤的方法提取脾氨肽有效组分,这种方法的缺点是提取率低,产品纯度低,因为有害的大分 子和小分子不能有效去除,同时这种方法细胞破碎不完全,有效成分不能完全释放。
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前普通设备转速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号
流量
L/H
转速
rpm
线速度
m/s
功率
kw
入/出口连接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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