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    硫酸钡溶液研磨分散机

    产品型号: CMD2000/4
    品  牌: IKN
    • ≧1 台
      ¥189000.00
    所 在 地: 上海松江区
    更新日期: 2025-06-19
    详细信息
     品牌:IKN  适用物料:药物  进料粒度≤:150 mm 
     出料粒度:2 mm 型号:CMD2000/4  应用领域:医药  
     生产能力:300-60000 kg/h 主轴转速:9000-1100 r/min 电机功率:2.2-110 KW 
     外形尺寸:450*350*750 m 重量:1150 kg 粉碎程度:细磨机  

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          硫酸钡,适用于上、下消化道造影。无臭、无味粉末,密度4.25-4.5,分解温度>1600℃。溶于热浓硫酸,几乎不溶于水、稀酸、醇。水悬浮溶液对石蕊试纸呈中性。
        对于硫酸钡溶液的生产,目前许多厂家采用国产胶体磨生产,由于国产胶体磨本身转速较低为2930转,生产出来的硫酸钡溶液粒   径一般在20μm左右,而且生产效果很低,需要研磨5-6小时。而使用IKN研磨分散机进行处理,研磨两遍,粒径可以细化到5μm,效果好,效率高。

         研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,效果远远好于单台胶体磨处理的效果,研磨分散机是一台目前型的研磨分散设备

          硫酸钡CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

              

     

    硫酸钡研磨分散机的特点:

    ①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

    ②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

    ③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

    ④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    ⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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