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    胶体磨在白炭黑生产工艺中的应用

    2012-02-08 17:33:48  来源:周先生


     

    胶体磨用于沉淀法生产二氧化硅(白炭黑)工艺

         1、水淬水经水淬水过滤机过滤,去除机械杂质,滤液进入水 淬水储槽。然后泵送至水玻璃配置槽及反应器。
          2、水玻璃车间主任送来的水玻璃液体进入水玻璃配置槽中,加入适量水水淬水和工艺水制成的水玻璃溶液。再经压滤机过滤除去沉淀物后,由水玻璃中间泵打到水玻璃计量槽,经计量,再用水玻璃输送泵送到反应器。
          3、浓硫酸用槽车运来,放入浓硫酸接收槽,经液下泵送至硫酸储槽,用硫酸计量泵送到反应器使用。
          4、 水玻璃和浓硫酸加入沉淀反应器中,通蒸汽直接加热,反应后,反应器浓度    ,终点PH值3~7,放入料浆中间槽,并用料浆泵打入换热器进行换热。以降低料浆温度。料浆换热后进压滤机过滤并用清水洗涤,母液排掉。料浆回收槽用来回收过滤物料及干燥工序的文丘里洗涤器浓浆。用料浆泵返送压滤机重新过滤,回收。滤饼经皮带输送机送胶体磨进行打浆。打浆完成后用料浆泵输送到浓浆槽,经浓浆泵送干燥塔进行干燥,经干燥后的产品送产品料仓,包装入库。

    从以上工艺中可以看出,要想做出更细更纯的白炭黑,需要在滤饼打浆过程中提高效果,采用高剪切胶体磨在打浆过程中可以得到这样的效果。这样就对胶体磨的参数有一定的要求,比如胶体磨研磨速率、转速、定转子间距、材质硬度等等。

    白炭黑胶体磨研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
    – 研磨速率F (s-1) = v 速率 (m/s)/g 定-转子间距 (m)
     由上可知,研磨速率取决于以下因素:
    – 磨头的线速率
    – 转子-定子间距

     结合1,2中的数据可得:

    F1=23/0.7X1000=32857 S-1
    F2=40/0.7/X1000=57142 S-1

    普通转速为3000RPM的机型大约在 14293-21544 S-1
    高硬度物料可选CMO 磨头,配置有金属碳化物或陶瓷涂层的锥型转子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蚀。

    CM2000/4PP系列)为高剪切胶体磨的技术参数:功率2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 /小时(水),重量45KG, 尺寸 (长宽高)(450X250X350)MMPP使用双机械密封,可24小时不停机连续生产,并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块,可以实现多功能多用途,是中试和小批量生产的*佳选择。

    CM2000/4胶体磨 为立式分体式结构,通过皮带传动,并实现加速,加速比为31即正常50HZ频率下转速为7890RPM,外加变频可达13789RPMCM2000/4磨头直径为550mm由此可得线速度

     V1= 3.14X0.055X7890/60 =23 M/S

     V2=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

    磨头结构更精密并有独特设计,使之研磨作用力更大,效果更好。CM2000/4磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下浅的齿列结构,相较沟槽是直线,同级的沟槽深度一样的磨头,可以保证物料从上往下一直在进行研磨。虽和其它产品一样磨头采用三级磨齿,但他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

     


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